첫 번째는 원료 가공입니다. 실리카 또는 실리콘 광석은 파쇄, 분쇄, 자기 분리 및 기타 단계를 거쳐 실리콘 슬래그, 실리콘 파우더 또는 실리콘 원소로 가공됩니다. 실리콘 슬래그와 실리콘 파우더는 실리콘의 주요 원료이며 실리콘 웨이퍼와 실리콘 웨이퍼 제품을 준비하는 데 중요한 재료입니다.
두 번째 단계는 제련 공정으로, 실리콘 슬래그 또는 실리콘 파우더를 제련로를 통해 고온으로 가열하여 액체 실리콘으로 녹입니다. 제련 공정 동안 온도, 압력 및 분위기를 제어하여 실리콘 재료의 품질과 순도를 보장해야 합니다. 제련된 액체 실리콘은 실리콘 웨이퍼 및 태양광 실리콘 웨이퍼와 같은 제품을 준비하는 데 사용할 수 있습니다.
정제된 실리콘 금속 제조
그 다음에는 몰드 공정이 있는데, 여기서는 액체 실리콘을 몰드에 주입하고 냉각 및 응고 후 실리콘 블록, 실리콘 웨이퍼 및 기타 제품으로 형성합니다. 몰드 공정은 성형된 제품의 치수 정확성과 표면 마감을 보장하기 위해 온도, 압력 및 속도를 제어해야 합니다.
다음은 실리콘 블록 또는 실리콘 웨이퍼를 절단, 모서리 처리, 연마 및 기타 처리 단계를 거쳐 실리콘 웨이퍼, 실리콘 웨이퍼 및 기타 반도체 소재와 장치를 준비하는 처리 공정입니다. 처리 공정에는 정밀 처리 장비 및 기술과 미세 공정 제어를 사용하여 처리된 제품의 품질과 성능을 보장해야 합니다.
마지막 단계는 표면 처리 공정으로, 처리된 실리콘 웨이퍼의 표면 품질과 광전 성능을 개선하기 위해 세척, 필름 제거, 코팅 및 기타 처리를 포함합니다. 표면 처리 공정은 표면 오염 및 손상을 방지하기 위해 공정 매개변수와 운영 환경을 엄격하게 제어해야 합니다.
실리콘 메탈 블록 제조
일반적으로 금속 실리콘 가공 기술은 정밀 장비, 엄격한 공정 제어 및 운영 기술을 필요로 하는 복잡한 프로젝트입니다. 지속적인 기술 혁신과 공정 개선을 통해 실리콘 소재의 품질과 수율을 개선하고 전자, 태양광, 항공우주 및 기타 분야에서 실리콘 소재의 광범위한 응용을 촉진할 수 있습니다.
